武汉弘芯7nm光刻机是真的吗(7NM光刻机)
武汉弘芯7nm光刻机是真的吗(7NM光刻机)
谁也没有想到，弘芯做局者才小学文凭，也没有人想到，其宣传出来的一切，那些高大上的背景，都是骗人的，连蒋尚义都被骗到上了贼船。他们真实目的就是骗武汉政府的投资，这个在业内很多人看来，一个并不高的金额。
根据台积电披露的5nm工艺良率推测，7nm也按80%良率计算（SOC属于逻辑芯片，比SRAM存储芯片复杂，所以按平均良率已经是一个比较高的水平），实际得到大约5000万片die。
第二，中国进口*进的光刻机，是7nm。2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。
在制作难度上肯定7nm（纳米）技术要比14nm（纳米）技术难度更大；在制作费用上两者的差距也是有着很大区别的。
光刻机作为芯片制造过程中不可或缺的一环，对芯片的性能、可靠性和稳定性起着重要的影响。目前，中国的光刻机制造技术已经取得了长足的发展。
1、第二，中国进口*进的光刻机，是7nm。2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。
2、并且ASML是有着7nm技术光刻机的供应商，这在全球是*的，也就是说这家公司几乎是垄断了整个市场，当前的众多芯片产商都是需要这家公司的生产才能够制造出完美的芯片。
3、不要把问题想简单了，以为芯片也只有光刻机和刻蚀机。芯片制造的技术、经验、工艺以及人才是一个系统性的工程，台积电也不是一天建成的，有了光刻机也不代表我们就能造出最*的芯片。
4、月13日，根据新浪 财经 *报道，国内光刻胶领域迎来好消息，对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。
可以生产9nm的芯片。22nm光刻机*能生产7nm的芯片。22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片。*利用duv光刻机制造出7nm芯片的是台积电和三星公司，也是目前全球可以做到7nm量产的两家公司。
duv：基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，却无法达到10nm以下。euv：能满足10nm以下的晶圆权制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。发光原理不同 duv：光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米。
制程范围不同。duv：基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，却无法达到10nm以下。euv：能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。发光原理不同。
基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。 duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，内部必须是真空操作。以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了，现在基本都是euv光刻机。
